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本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法對(duì)不同溶液制備多層薄膜材料。將不同溶液放置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，將潔凈基片夾持在夾具上，通過(guò)設(shè)置鍍膜程序，基片進(jìn)入溶液提拉鍍膜，然后旋轉(zhuǎn)臺(tái)將下一層薄膜的溶液自動(dòng)旋轉(zhuǎn)至基片正下方，然后基片下降進(jìn)入溶液提拉鍍膜，后續(xù)膜層依次完成。不同溶液、不同材料的膜層和混插浸鍍。例如可以按照溶液順序排列123456鍍膜，也可按照混合排列136425鍍膜。一次鍍膜流程可用*多6種溶液（材料）做20層薄膜。整個(gè)基片浸漬鍍膜參數(shù)、溶液旋轉(zhuǎn)、不同膜層的間隔時(shí)間等流程由鍍膜程序全自動(dòng)控制。

二.    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門(mén)為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)，對(duì)不同液體通過(guò)浸漬提拉生長(zhǎng)薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三.    產(chǎn)品特點(diǎn)

1.        提拉裝置、程序控制系統(tǒng)均采用中國(guó)臺(tái)灣及德國(guó)進(jìn)口產(chǎn)品，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性；

2.        可對(duì)不同溶液（材料）進(jìn)行全自動(dòng)多層浸漬提拉鍍膜；

3.        多參數(shù)全自動(dòng)程序控制。共有六個(gè)參數(shù)設(shè)置：下降速度、浸漬時(shí)間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時(shí)間，各參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，精密控制。

4.        鍍膜程序設(shè)定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過(guò)程全自動(dòng)運(yùn)行。

5.        高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，使膜層更均勻、無(wú)條紋。

6.        采用4.3英寸液晶觸摸屏使控制更方便。運(yùn)行時(shí)，各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀了解鍍膜進(jìn)程。

7.        上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運(yùn)行時(shí)，到限位處自動(dòng)停止，避免提拉或下降的超限運(yùn)行。

8.        采用獨(dú)特設(shè)計(jì)的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會(huì)夾壞樣片。

四.    技術(shù)參數(shù)

1.        提拉速度范圍：1～5000 μm/s，*小分辨率1μm/s；

2.        速度精度：-0.02%～+0.02%

3.        **行程：230 mm

4.        適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；

5.        浸漬時(shí)間：1～1200 s，*小分辨率1s；

6.        溶液種類：MAX 6種；（旋轉(zhuǎn)臺(tái)上有6個(gè)位置，*多可放置6種材料的溶液）

7.        旋轉(zhuǎn)臺(tái)轉(zhuǎn)速：0.001～1 r/s；

8.        旋轉(zhuǎn)臺(tái)尺寸：?180 mm；

9.        旋轉(zhuǎn)臺(tái)控制方式：自動(dòng)程序控制；

10.    鍍膜次數(shù)：1～20次，*少1次；

11.    每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，*小分辨率1s；

12.    電源：220V/50Hz