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        真空氣相沉積爐
        真空氣相沉積爐

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        面議

        型號

        HVCVD

        品牌

        產(chǎn)地

        上海

        樣本

        暫無
        上海哈騰電爐設(shè)備有限公司

        會員

        |

        第5年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實

        留言詢價
        核心參數(shù)
        • 燒結(jié)氣氛:

          真空
        • 溫控精度:

          ±5℃
        • 最高溫度:

          1500℃
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        1. 設(shè)備用途

                本設(shè)備主要用于碳素制品的化學(xué)氣相沉積增密處理,或以碳?xì)錃怏w為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳?xì)种破氛婵仗蓟錈崽幚怼?/p>


           

        1. 設(shè)備特點

                1. 雙層SUS304爐體結(jié)構(gòu),中間通以冷卻水,有效降低爐體表面溫度,減少高溫傷害,降低對環(huán)境的影響;
                2. 采用先進(jìn)的保溫材料及隔熱結(jié)構(gòu),導(dǎo)熱系數(shù)低,保溫效果好,即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量,節(jié)約能耗;
                3. 能夠準(zhǔn)確控制氣體流量和壓力,通過特殊的導(dǎo)氣結(jié)構(gòu)和裝置,大大提高產(chǎn)品的合格率,降低沉積時間;
                4. 通過特殊的過濾裝置,使其熱解過程的碳粉幾乎完全過濾,不進(jìn)入真空機組,大大延長了真空機組的使用壽命;
                5. 人性化配置,既可以手動操作,也可以實現(xiàn)一鍵智能操作;
                6. 型式多樣化,立式上開門、立式底升式、臥式側(cè)開門,任意選擇;
                7. 本產(chǎn)品接受非標(biāo)定制。


           

        1. 設(shè)備參數(shù)

        型號

        工作區(qū)尺寸
                 D×H

        **溫度
                 ℃

        溫度均勻性
                 ℃

        冷態(tài)極限真空度
                 Pa

        壓升率
                 Pa/h

        加熱功率
                 Kw

        HVCVD-2030

        Φ200×300

        1500

        ±5

        50

        3

        25

        HVCVD-2540

        Φ250×400

        1500

        ±5

        50

        3

        40

        HVCVD-3050

        Φ300×500

        1500

        ±5

        50

        3

        55

        注:以上技術(shù)參數(shù)可根據(jù)工藝進(jìn)行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。


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        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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