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小型狹縫涂布儀

英國Ossila公司小型狹縫涂布儀結構緊湊，價格實惠，使用簡單，準確度高。 對于那些希望在小型實驗室中擴大實驗工藝的用戶來說，它是理想之選。與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容，狹縫涂布是用于可擴展沉積薄膜的技術之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高，準確且可重復，厚度可通過改變流速和基材速度來控制。

產品特征

u 體積小巧---緊湊型桌面設計，可放置在標準實驗臺，通風櫥，甚至手套箱內使用。

u 輕松設置---即插即用，不需要壓縮氣體或真空管線。

u 高交叉網均勻性---衣架式溶液分配設計，流速均勻?？色@得高均勻性的涂層，適用于各種粘度的溶劑。不銹鋼槽模頭可與廣泛的材料兼容。

u 通道厚度可變---可更換的不銹鋼墊片，更改槽模通道的厚度。通過插入多個墊片，以100μm的間隔增加通道厚度。

u 均勻的流量和厚度---槽模系統(tǒng)內置注射泵。用戶可通過軟件精確控制注射泵進入狹縫模頭系統(tǒng)的溶液量，從而能精確和可重復地控制沉積膜的厚度。

u 溫度控制---操作臺上的內置熱板，基板溫度控制在120°C。軟件中可設置溫度補償以適應高氣流環(huán)境，校正基板和熱板溫度之間的差異。通過降低表面張力控制基材溫度可改善溶液的潤濕性，同時干燥速率也可以改變沉積膜的納米結構。

u 基板速度設置范圍廣泛---操作平臺可平穩(wěn)，連續(xù)的移動。電機以低至1mm/s的速度到高達50mm / s的速度移動。

u 精確定位---通過使用三點校平系統(tǒng)和高精度千分尺，可以精確調整平臺和涂布頭之間的位置。精細對齊可以使系統(tǒng)在平臺行程范圍內實現(xiàn)低至1um/厘米的高度變化。

u 涂布頭高度控制---涂布頭架上方預留了兩個微米的空間，用于調節(jié)涂布頭和平臺之間的位置。通過調整狹縫模頭的高度，改善彎月面的穩(wěn)定性，改變*小濕膜厚度。

三點調平系統(tǒng)，狹縫擠出式平臺可以與涂布頭精確對準。

內置注射器泵可以精確控制溶液流量和體積。

狹縫擠出頭特別設計，整個涂布寬度內可保證均一涂布效果。

直觀的鍵盤覆FEP保護膜，有很好的耐溶液腐蝕性。

內置軟件

英國Ossila公司狹縫涂布儀內置系統(tǒng)軟件，高清全彩色LCD液晶顯示屏，內置軟件可編程復雜的多步驟過程，系統(tǒng)的不同部分可獨立控制。不需要任何外部計算機控制。節(jié)省實驗室空間。系統(tǒng)能夠保存20個不同的程序，每個程序*多包含50個步驟。便于以后的重復性實驗。用戶可選擇各種溶液分配速度，分配量，分配時間，階段速度和移動的距離。結合簡單易用的控制面板和用戶界面，系統(tǒng)編程可快速完成。

應用領域

u 有機光伏

u 有機場效應晶體管

u 導電聚合物

u 納米線

u 納米管

u 2D材料

u 有機發(fā)光二極管

u 鈣鈦礦光伏

u 鈣鈦礦發(fā)光二極管

u 染料敏化太陽能電池

還有很多...

技術規(guī)格

u 狹縫擠出頭材質：不銹鋼。

u 狹縫擠出頭涂布寬度：50mm(*多)。

u 狹縫擠出墊片厚度：100μm。

u 狹縫擠出墊片套裝：5個50毫米寬墊片或5個25毫米寬的墊片。

u 電熱板溫度：120°C。

u 行程長度：100mm。

u 平臺速度：100μm.s-1。

u 平臺速度：50mm s-1。

u 注射器速度：12μm.s-1。