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EDK 6900 P

用于垃圾填埋場(chǎng)CH4排放監(jiān)測(cè)便攜式激光氣體分析儀

垃圾填埋場(chǎng)甲烷排放監(jiān)測(cè)

甲烷在大氣輻射平衡和化學(xué)過(guò)程中起關(guān)鍵作用。主要人為來(lái)源有垃圾填埋、飼養(yǎng)反芻動(dòng)物、廢物的厭氧生產(chǎn)、采礦和化石燃料的使用、生物質(zhì)的燃燒釋放等。

平均而言，在全球范圍內(nèi)，垃圾填埋中產(chǎn)生的甲烷氣體排放量占人為甲烷氣體總排放量的10-19%。

CH4是一種強(qiáng)有力的溫室氣體，比CO強(qiáng)大約25倍，主要來(lái)自水庫(kù)、垃圾填埋場(chǎng)和多年凍土層。

EDK 6900可以精確并有選擇性地檢測(cè)較低ppm濃度甲烷氣體，不需要頻繁校準(zhǔn)儀器。因此，它非常適合研究垃圾填埋場(chǎng)或遠(yuǎn)程站點(diǎn)應(yīng)用如環(huán)境研究方面的CH4排放監(jiān)測(cè)。

主要特點(diǎn)

l快速監(jiān)測(cè)甲烷氣體

l可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器光譜技術(shù)TDLS

l內(nèi)置采樣泵

l19”機(jī)架安裝或便攜式機(jī)箱

l零點(diǎn)/量程校準(zhǔn)

l持續(xù)地傳感器狀態(tài)監(jiān)測(cè)

l低成本方案

l可擴(kuò)展多點(diǎn)采樣系統(tǒng)

l即插即用的安裝類型

l觸摸屏顯示器

l以太網(wǎng)和USB遠(yuǎn)程處理

lModbus、Profibus、以太網(wǎng)輸出

l基于ARM處理器

l數(shù)字輸入/輸出

l信號(hào)模擬輸出4-20mA

技術(shù)

EDK使用具有增強(qiáng)型的TDLS技術(shù)進(jìn)行氣體檢測(cè)，用0.1 nm窄的帶寬激光二極管光束掃描目標(biāo)氣體的吸收帶，執(zhí)行較高分辨率近紅外線吸收測(cè)量。

因此，EDK 6900為當(dāng)前寬紅外光學(xué)的檢測(cè)解決方案提供了明顯的**替代方案，并將對(duì)氣體高選擇性、無(wú)校準(zhǔn)操作、低成本優(yōu)勢(shì)與高精度、無(wú)接觸式的光學(xué)測(cè)量相結(jié)合。

EDK 6900 軟件

該程序?qū)@示實(shí)時(shí)測(cè)量圖形曲線。軸時(shí)間的原點(diǎn)與測(cè)量時(shí)間的開始一致。您將在窗口上方看到實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)（“*后測(cè)量”）。

在軟件的同一屏幕中，可顯示具有任何參考編碼的報(bào)警。（需要將其傳達(dá)給EDK進(jìn)行故障排除）

技術(shù)規(guī)格

參數(shù)單位值/量程

氣體 - CH4

檢測(cè)原理 - 可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器光譜技術(shù)TDLS

量程 ppm 0-100 滿量程校準(zhǔn)，標(biāo)準(zhǔn)

是100ppm(不保證精度的

情況下也可達(dá)到40000ppm)

準(zhǔn)確度 - ±2%滿量程讀數(shù)，依據(jù)儀器積分穩(wěn)定性，

（溫度/氣壓）

精度2? ppm 1.0@1s 積分時(shí)間

0.4@10s 積分時(shí)間

超過(guò)2小時(shí)零點(diǎn)漂移 - 在準(zhǔn)確度之內(nèi)

超過(guò)8小時(shí)量程漂移 - 在準(zhǔn)確度之內(nèi)

溫度補(bǔ)償**誤差值 %of <0.1 讀數(shù)/°C

線性和重復(fù)性 - 在準(zhǔn)確度之內(nèi)

交叉干擾 - 依據(jù)氣體混合狀態(tài)和工況

顯示分辨率 ppm 0.1(可顯示負(fù)值）

刷新率 s 1(可選擇積分時(shí)間，*長(zhǎng)120s，)

萬(wàn)一無(wú)被測(cè)氣體，可達(dá)2s

T90 時(shí)間 s 2（氣體流通率3L/min）

大氣溫度補(bǔ)償 °C -10...65(根據(jù)工況，盡可能窄）

測(cè)量氣體**濕度 % **濕度 根據(jù)工況，需校準(zhǔn)

外部輸入?yún)?shù)補(bǔ)償 - 壓力，溫度，混合氣體濃度（可自定制）

**樣氣量 L/min 5(1); 可在3校準(zhǔn)

供電 VAC 220~230/115 50/60Hz

19’’機(jī)架 HE 4U（深度500mm）

電氣接口 - 世偉洛克 外徑6mm

采樣泵 - 內(nèi)置

參考工況，外部20℃、1014hPa、45%相對(duì)濕度