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傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩模板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。激光直寫光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩模板的方法，克服了這一問題。與通過
物理掩模板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦軟件控制，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案，無需掩膜工序。
絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時間都浪費在了如電極連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工*細小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的Microtech加工大面積部分。Microtech先進的對準機制可以使兩部工序**結(jié)合。因此Microtech也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實驗環(huán)境。
Microtech是直寫刻蝕領(lǐng)域知名的品牌，其**技術(shù)和穩(wěn)定系統(tǒng)源自美國麻省理工**的林肯國家實驗室，LW405系列轉(zhuǎn)為科研實驗室和小型超凈室設(shè)計開發(fā)的多功能光刻系統(tǒng)，適用于快速微納米加工和小規(guī)模生產(chǎn)，除了可達到超高分辨的線寬外，其穩(wěn)定性和多功能性也得到業(yè)界的一致認可和好評。Microtech做為世界上*早研發(fā)激光光刻技術(shù)的供應(yīng)商，打破了以往的激光直寫設(shè)備高昂價格壁壘，使得研究人員可以理工與傳統(tǒng)光刻機相當?shù)某杀就瓿筛哽`活性的激光直寫光刻工藝。
Key Features:
• 標準405nm光源， 可選第二個光源375nm用于SU8(266nm等其他激光可選) • 自動聚焦Autofocus， 基底表面粗糙跟蹤功能 • 每像素256灰階光刻功能 • 超高定位精度激光干涉樣品臺，基底2寸， 4寸， 6寸， 8寸和14寸 (可到800mm) • 用于多層套刻功能和Front-back校準對齊功能 • 4種可選規(guī)格線寬分辨率可到0.5um到0.7um • 標準用于4個不同分辨率和刻寫速度的可自動轉(zhuǎn)換讀寫頭 • 直寫基底：硅， GaAs， InP， 玻璃， 微波， Cryogenic低溫， 生物基板 • 激光刻寫圖形可使用在不平或傾斜樣品上 • 四種刻寫模式：Beam， Stage scan， Vector， Contour 光刻膠直寫功能 Direct Writing 套刻直寫功能 Alignment Multi-Exposure 灰階光刻功能 Gray Scale Exposure 3D 激光刻蝕功能 3D Laser Patterning Applications應(yīng)用: 掩膜板制作； 無掩膜激光直寫； 成衍射光學器件； MIC微波集成電路 微電子制作；MEMS/NEMS/傳感器； 微流體； 光波管； 石墨烯器件； 三維激光微納米加工
暫無數(shù)據(jù)！
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