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儀器簡介：

MultiPrep™ 系統(tǒng)適用于高精微（光鏡，SEM，TEM，AFM，etc）樣品的半自動(dòng)制備。主要性能包括平行拋光，精確角拋光，定址拋光或幾種方式結(jié)合拋光。它保證良好的重現(xiàn)性，可以解決多用戶使用的矛盾。 MultiPrep 無須手持樣品，保證只有樣品面與研磨劑接觸。

技術(shù)參數(shù)：

• 測微計(jì)控制樣品的設(shè)置

• 精確軸設(shè)計(jì)保證樣品垂直于研磨盤，使之同時(shí)旋轉(zhuǎn)。

• 數(shù)字千分表顯示樣品行程，增量1微米（實(shí)時(shí)）

• 雙軸測微計(jì)控制樣品角坐標(biāo)設(shè)置（斜度和擺度），10°幅度， 0.02° 增量。

• 6倍速樣品自動(dòng)擺動(dòng)。

• 8倍速樣品自動(dòng)旋轉(zhuǎn)。

• 樣品調(diào)整范圍：0-600克（100克增量）

• 數(shù)字計(jì)時(shí)器與轉(zhuǎn)速計(jì)

• 凸輪鎖緊鉗無需其他輔助工具，方便用戶重新設(shè)置工作夾具。

• 符合CE標(biāo)準(zhǔn)

• 美國設(shè)計(jì)并制造

主要特點(diǎn)：

TechPrep™ 為MultiPrep™ 的定位裝置提供電源。人性化的控制面板設(shè)計(jì)控制MultiPrep™所有功能。研磨盤轉(zhuǎn)速范圍（順/逆時(shí)針）為5到350PRM。除觸摸開關(guān)控制所有功能外，還有數(shù)字觸摸鍵盤用于設(shè)置研磨盤速度、計(jì)時(shí)器、擺動(dòng)與旋轉(zhuǎn)設(shè)置。此系統(tǒng)用水符合冷卻標(biāo)準(zhǔn)；自動(dòng)滴液給料系統(tǒng)適用研磨懸浮液和潤滑劑。