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        高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
        高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

        參考價(jià)格

        面議

        型號(hào)

        高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

        品牌

        北京泰科諾

        產(chǎn)地

        北京

        樣本

        暫無
        北京泰科諾科技有限公司

        高級(jí)會(huì)員

        |

        第1年

        |

        生產(chǎn)商

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        設(shè)備型號(hào):JCPY500 

        真空腔室結(jié)構(gòu):后置抽氣系統(tǒng)

        真空腔室尺寸:Φ500mm×H450mm帶 Load-Lock 功能 支持單片或多片進(jìn)取樣

        加熱溫度 :室溫~ 500℃

        基片臺(tái)尺寸:Φ150mm

        膜厚不均勻性 :Φ100mm 范圍內(nèi)≤ ±5.0%

        濺射靶 :Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支(可選)

        工藝氣體 :3 路氣體流量控制

        控制方式 : PLC/PC(可選)

        占地面積 (主機(jī)) :L1800mm×W800mm×H1845mm

        總功率 :≥ 15kW

        適用范圍.jpg


        大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備


        特點(diǎn)用途.jpg


        1. 可提供工藝技術(shù)支持,及良好售后服務(wù);

        2. 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,性價(jià)比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;

        3. 單靶濺射 / 多靶依次濺射或共同濺射,兼容 DC/MF/RF 濺射等功能 。

        4. 可制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕摸、透明導(dǎo)電膜,如鈣鈦礦空穴傳輸層、金屬電極以及透明導(dǎo)電層ITO膜層的制備等”;



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        10分

        性價(jià)比

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