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        IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨
        IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨

        參考價(jià)格

        10-20萬(wàn)元

        型號(hào)

        CMSD2000/ 04

        品牌

        IKN

        產(chǎn)地

        德國(guó)

        樣本

        暫無(wú)
        上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

        金牌會(huì)員

        |

        第14年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實(shí)

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        核心參數(shù)
        • 磨拋盤直徑:

          55mm
        • 主軸轉(zhuǎn)速:

          14000
        • 切割片尺寸:

          55mm
        • 空氣耗量(L/min):

          2
        • 空氣壓力(kpa):

          10
        • 粉碎程度:

          超細(xì)粉碎
        • 單位能耗:

          --
        • 產(chǎn)量:

          100
        • 裝機(jī)功率(kw):

          4
        • 成品細(xì)度:

          鈉米級(jí)
        • 入料粒度(mm):

          10mm以下
        • 工作原理:

          自磨
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        催化劑漿料制備關(guān)鍵點(diǎn):

        穩(wěn)定均一:①減少尾端顆粒的數(shù)量②粒徑分布窄

        分散性好:減少鉑炭催化劑大粒子的團(tuán)聚

         

        在漿料生產(chǎn)過(guò)程中,常見(jiàn)的問(wèn)題包括:

        1.提高催化劑活性

        減小催化劑顆粒尺寸可以有效提升其活性,但未分散的顆粒容易形成大團(tuán)聚物,導(dǎo)致顆粒尺寸增大、比表面積減小,從而降低催化活性。適當(dāng)?shù)姆稚⒂兄谔岣叽呋瘎┗钚?,進(jìn)而影響膜電極組件(MEA)的性能.

        2.提高催化劑的穩(wěn)定性和均一性

        燃料電池中使用的鉑炭催化劑要求鉑納米顆粒的粒徑在3-5納米之間,粒徑分布窄,且在炭上均勻分散,不含有害雜質(zhì)(如氯)。由于3-5納米鉑納米顆粒的表面能較大,容易發(fā)生團(tuán)聚,因此制備出滿足這些條件的鉑碳催化劑工藝難度較高,這也是目前主要依賴進(jìn)口的原因之一.

        3.減少催化劑用量和提高利用率

        催化劑層(CL)一直面臨著陰極氧還原反應(yīng)(ORR)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)緩慢以及質(zhì)量傳輸過(guò)電位過(guò)高的問(wèn)題,其中一個(gè)主要原因是CL上催化劑團(tuán)聚體中離聚物對(duì)鉑(Pt)的覆蓋。離聚物覆蓋在Pt表面會(huì)減少催化活性位點(diǎn),導(dǎo)致ORR活性損失,而Pt表面高密度過(guò)厚的離聚物層則會(huì)導(dǎo)致質(zhì)量傳輸過(guò)電位增加。這些問(wèn)題都與CL上團(tuán)聚體的結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。均一分散的催化劑漿料可以與涂覆工藝相結(jié)合,盡量使涂覆層更薄,從而提高催化劑的利用率.

        4.連續(xù)性生產(chǎn)(穩(wěn)定性)

        分散的鉑炭催化劑會(huì)隨著時(shí)間推移發(fā)生再聚集,因此分散好的漿料需要盡快進(jìn)行下一工序以形成催化基層。連續(xù)分散過(guò)程可以與催化劑漿料的涂布過(guò)程同步進(jìn)行,允許在分散后立即使用催化劑漿料進(jìn)行連續(xù)生產(chǎn)催化劑層。雖然在實(shí)際生產(chǎn)中,連續(xù)生產(chǎn)可以解決部分問(wèn)題,但體系穩(wěn)定的漿料可以顯著降低工藝難度。


        有很多應(yīng)用中,200-600目的顆粒度是不夠的,需要達(dá)到1-2微米甚至更小,常用的研磨設(shè)備以及研磨方式已經(jīng)難以滿足此技術(shù)要求。上海依肯在傳統(tǒng)膠體磨與均質(zhì)機(jī)的基礎(chǔ)上,研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī),其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯(cuò)齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無(wú)限接近,再配合15000RPM的超高轉(zhuǎn)速,當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來(lái)后進(jìn)入分散盤腔內(nèi),根據(jù)物料的特性及處理量的要求,上海依肯提供2G,4M,6F,8SF不同規(guī)格的斜齒,對(duì)磨細(xì)的顆粒進(jìn)行二次剪切和分散,防止顆粒抱團(tuán)。


        IKN模塊化設(shè)計(jì)的主要特點(diǎn)如下:

        -直立式腔體結(jié)構(gòu),物料可以全部進(jìn)入分散腔;

        -無(wú)死角;

        -良好的表面處理;

        -符合CIP/SIP的清洗要求;

        -低噪音;

        -所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316;

        -小試、中試到量產(chǎn),平穩(wěn)過(guò)渡;

        -僅需簡(jiǎn)單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求;

        -衛(wèi)生設(shè)計(jì),適合食品及制藥行業(yè);

        -可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。



        研磨分散機(jī)參數(shù)選型表 

        CMSD選型.png

        表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

        流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

        技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來(lái)電:本公司有樣機(jī)可供客戶購(gòu)前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來(lái)我司參觀指導(dǎo)!


         IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高速研磨機(jī)/高速膠體磨改進(jìn)式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨


        創(chuàng)新點(diǎn)

        結(jié)合錐形刀頭與平面刀頭 提高研磨與分散效果

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        • IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨包安裝嗎?
        IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨信息由上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產(chǎn)高剪切膠體磨報(bào)價(jià)、型號(hào)、參數(shù)等信息,歡迎來(lái)電或留言咨詢。
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