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面議型號
CMP后清洗液品牌
湖北鼎龍產(chǎn)地
湖北樣本
暫無密度(g/c㎡):
-品級:
工業(yè)級外觀:
液體有效物質(zhì)含量:
-執(zhí)行質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):
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主要用于去除殘留在晶圓表面的微塵顆粒、有機(jī)物、無機(jī)物、金屬離子、氧化物等雜質(zhì),滿足集成電路制造對清潔度的極高要求,對晶圓生產(chǎn)的良率起到了重要的作用。全系列原材料電子級純化產(chǎn)線,諸多核心材料自主生產(chǎn)。
暫無數(shù)據(jù)!