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AJA從1991年成立以來已經(jīng)研發(fā)了上百種不同類型的磁控濺射靶，其中包括許多定制化濺射靶。根據(jù)基片幾何形狀、腔室結構、靶材材料組成和薄膜規(guī)格的不同需求可選擇不同型號濺射靶，如矩形，圓形，塔式和圓柱形獨特的模塊磁鐵組合·獨有的模塊化磁鐵組合，磁鐵完全和冷卻水隔離，因而不會造成磁鐵的劣化，進而導致濺射靶源性能的衰減。此種設計可以方便用戶接觸內部磁鐵組合，便于靶槍的維護和清潔:
工作于平衡磁控狀態(tài)
**化靶材利用率
進行高或低濺射速率
工作于多種非平衡磁控態(tài)
進行均勻性或者有意為之的不均勻性沉積
到達基片表面的高或低電子能量
濺射較厚的磁性靶材
方便更換或拆卸磁性靶材
暫無數(shù)據(jù)！
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