時(shí)間:2010年9月27-29日
地點(diǎn):上海國(guó)際展覽中心
地址:上海市興義路77號(hào)
公司展位號(hào)1118,屆時(shí)將攜最新R系列干法激光粒度儀HELOS/RODOS(測(cè)試范圍0.1-3500μm)、動(dòng)態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC(測(cè)試范圍1-20000μm)、納米激光粒度儀NANOPHOX(測(cè)試范圍1-10000nm)、超聲衰減粒度儀OPUS(0.01-3000μm),并有中國(guó)工程師在現(xiàn)場(chǎng)為您做專業(yè)的介紹與解答。
德國(guó)新帕泰克專利的干法粒度儀HELOS/RODOS,以其“干樣干測(cè)”、“瞬時(shí)分散,瞬時(shí)測(cè)量”的優(yōu)勢(shì),廣泛以用于粉體行業(yè)的粒度分析與測(cè)量,具有分散效果好、測(cè)試速度快、準(zhǔn)確性與精度高等優(yōu)點(diǎn)。
動(dòng)態(tài)粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎(chǔ)上,提供粒形信息,為以顆粒形態(tài)為表征的行業(yè)與分析研究院提供了包括球形度、長(zhǎng)寬比、纖維長(zhǎng)度等更多參數(shù)的信息。
納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理,消除多重散射的影響,測(cè)試濃度高,準(zhǔn)確性好,同時(shí)提供穩(wěn)定性分析,是分析納米粉體的最佳選擇。
誠(chéng)摯歡迎各界人士的蒞臨展位交流!
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