中國粉體網(wǎng)5月2日訊納米材料沉積設備是我國支持發(fā)展的重大技術裝備。記者從市經(jīng)信委獲悉，近日，我市的賽瑞達電子裝備股份公司研制成功一種新的石墨烯納米材料化學氣相沉積（CVD）設備，單管一次可產(chǎn)6英寸石墨烯20片，代表國際先進水平。
石墨烯是已知最薄、最堅硬、導電性能最好的納米材料，CVD設備則是制備單層大面積石墨烯納米材料的關鍵裝備。賽瑞達公司研制的新一代CVD設備，采用不銹鋼真空腔室和石英管真空腔室的雙真空管工藝環(huán)境，通過加長恒溫區(qū)和改進石英舟的結(jié)構(gòu)設計，提高了設備產(chǎn)能，每管產(chǎn)量可達20片，設備材料制備過程無污染，大大提高了國內(nèi)納米材料CVD設備的技術水平。
石墨烯是已知最薄、最堅硬、導電性能最好的納米材料，CVD設備則是制備單層大面積石墨烯納米材料的關鍵裝備。賽瑞達公司研制的新一代CVD設備，采用不銹鋼真空腔室和石英管真空腔室的雙真空管工藝環(huán)境，通過加長恒溫區(qū)和改進石英舟的結(jié)構(gòu)設計，提高了設備產(chǎn)能，每管產(chǎn)量可達20片，設備材料制備過程無污染，大大提高了國內(nèi)納米材料CVD設備的技術水平。
