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        【展商推薦】廣東惠爾特納米科技有限公司邀您出席2025高端研磨拋光材料技術(shù)大會


        來源:中國粉體網(wǎng) 粉享匯   粉享匯

        [導(dǎo)讀]  2025高端研磨拋光材料技術(shù)大會,2025年4月16日,鄭州。

        中國粉體網(wǎng)訊  隨著社會的發(fā)展,工業(yè)的進(jìn)步,軌道交通、電子電力和航空航天等領(lǐng)域?qū)τ诠β势骷男枨笈c日俱增。其中,晶圓、陶瓷基板等關(guān)鍵部件將持續(xù)爆發(fā),而這些關(guān)鍵部件往往要求極精密的結(jié)構(gòu)尺寸和極高的平整度,拋光作為該類部件生產(chǎn)過程中最為關(guān)鍵的環(huán)節(jié),決定了產(chǎn)品整體質(zhì)量的好壞。


        2025高端研磨拋光材料技術(shù)大會將于2025年4月16日鄭州舉辦。廣東惠爾特納米科技有限公司作為參展單位邀請您共同出席。



        公司簡介


        廣東惠爾特納米科技有限公司,公司始創(chuàng)于1998年,是一家專注于高純納米二氧化硅、拋光液等納米新材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新科技集團(tuán)公司。集團(tuán)公司旗下?lián)碛衅叽笊a(chǎn)基地、頂尖研發(fā)團(tuán)隊(duì)及覆蓋全球的銷售網(wǎng)絡(luò),年產(chǎn)銷量突破20萬噸,是中國乃至全球硅溶膠產(chǎn)銷規(guī)模最大,布局最為合理的專業(yè)化、集團(tuán)化研發(fā)生產(chǎn)企業(yè)之一。


        公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷日本、韓國、中國臺灣、東南亞和中東等國家和地區(qū),在歐美、非洲市場也有一定的銷售量和影響力。


        部分產(chǎn)品介紹

        1、半導(dǎo)體拋光液




        二氧化硅(SiO2)含量30%50%,粒徑分布為20 nm160 nm,用于硅、鍺元素半導(dǎo)體以及砷化鎵、碲鋅鎘、磷化銦等化合物半導(dǎo)體粗拋、精拋過程,拋光速率高,拋光一致性好。


        2、HS-1430




        通用型堿性硅溶膠,二氧化硅(SiO2)含量29%31%,平均粒徑為10nm16nm,為硅酸鈉離子交換工藝。硅溶膠是配制納米二氧化硅拋光液的主要原料,提供CMP過程中所需的磨料,實(shí)現(xiàn)工件表面損傷的研磨去除。根據(jù)不同的拋光要求調(diào)整硅溶膠的濃度和粒徑,達(dá)到所需的拋光速率。硅溶膠中的化學(xué)組分與工件表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),使其軟化,同機(jī)械磨削協(xié)同配合,提高拋光后的表面質(zhì)量。


        3、大粒徑硅溶膠




        大粒徑堿性高純硅溶膠,粒徑分布為20 nm160 nm,二氧化硅(SiO2)含量20%55%,pH值9.011.0,有硅酸鈉離子交換法和單質(zhì)硅水解法兩種生產(chǎn)工藝。硅溶膠是配制納米二氧化硅拋光液的主要原料,提供CMP過程中所需的磨料,實(shí)現(xiàn)工件表面損傷的研磨去除。根據(jù)不同的拋光要求調(diào)整硅溶膠的濃度和粒徑,達(dá)到所需的拋光速率。硅溶膠中的化學(xué)組分與工件表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),使其軟化,同機(jī)械磨削協(xié)同配合,提高拋光后的表面質(zhì)量。



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        會務(wù)組


        聯(lián)系人:  盧銘旗

        手  機(jī):18669538053(微信同號)

        郵  箱:lumingqi@cnpowder.com




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