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            事關(guān)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)安全!掩模板材料如何打破美日韓壟斷?


            來源:中國粉體網(wǎng)   初末

            [導(dǎo)讀]  國內(nèi)有數(shù)家企業(yè)有能力生產(chǎn),但制備技術(shù)和加工技術(shù)方面差距較大。

            中國粉體網(wǎng)訊  光學(xué)掩模板,又稱光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等,在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu),是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版。


            掩模板:半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的關(guān)鍵材料


            光掩模板應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用光掩模板,主要用于集成電路、平板顯示器、印刷電路板、微機電系統(tǒng)等領(lǐng)域。近年來,半導(dǎo)體技術(shù)的集成化發(fā)展迅速,制造半導(dǎo)體器件的光刻法工藝得到提升,對半導(dǎo)體器件的材料精度要求也越來越高。光掩模技術(shù)作為半導(dǎo)體技術(shù)中的重要組成部分,其重要性也越發(fā)凸顯。


            按照基板材料分,光掩;蹇煞譃橥该鳂渲搴屯该鞑AЩ,相較而言,玻璃基板更為常用,光掩模玻璃基板根據(jù)玻璃組分,分為合成石英掩;濉⑴鸸璨Aа谀;搴吞K打玻璃(鈉鈣玻璃)掩;宓。石英掩;迨且高純石英玻璃為基材,具有高透過率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點,通常應(yīng)用于高精度掩膜版產(chǎn)品;蘇打掩;逡蕴K打玻璃為基材,相比石英玻璃具有更高的膨脹系數(shù)、更低的平坦度,通常應(yīng)用于中低精度掩膜版產(chǎn)品;硼硅玻璃光掩模基板,是指在硼硅玻璃原片基礎(chǔ)上,經(jīng)過加工后制作硼硅玻璃空白掩;濉


            光掩;宓墓に嚵鞒讨饕–AM圖檔處理、光阻涂布、激光光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、宏觀檢查、自動光學(xué)檢查、精度測量、缺陷處理、貼光學(xué)膜等環(huán)節(jié)。


            掩模板產(chǎn)業(yè)發(fā)展概況


            目前,半導(dǎo)體掩膜版圖形尺寸及精度隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點的演化而逐步提升,掩膜版精度的提升,主要表現(xiàn)為對基板材料和生產(chǎn)工藝的進(jìn)一步升級。在基板材料上,石英基板與蘇打基板相比,具有高透過率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點,通常應(yīng)用于對產(chǎn)品圖形精度要求較高的行業(yè),因此基板材料逐漸由蘇打基板轉(zhuǎn)為石英基板。生產(chǎn)工藝方面,隨著集成電路技術(shù)節(jié)點推動,對于掩膜版CD精度、TP精度、套合精度控制、缺陷管控等環(huán)節(jié)提出了更高的要求。


            我國半導(dǎo)體制造業(yè)發(fā)展領(lǐng)先全球,掩模板市場也保持較高的速度增長。掩模版是我國集成電路等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要環(huán)節(jié),在國家產(chǎn)業(yè)、科技、金融、財稅等政策的支持下,近幾年我國產(chǎn)業(yè)發(fā)展較快,但仍有較大的發(fā)展空間。半導(dǎo)體掩膜版技術(shù)壁壘高,工藝難度大,長期被福尼克斯等國外龍頭企業(yè)所壟斷。國內(nèi)有數(shù)家企業(yè)有能力生產(chǎn),但制備技術(shù)和加工技術(shù)方面差距較大,產(chǎn)品應(yīng)用也多是中低端市場,不能規(guī)模化、持續(xù)穩(wěn)定提供高端產(chǎn)品。


            此外,掩模版制版技術(shù)上的差距主要體現(xiàn)在關(guān)鍵尺寸(CD)、缺陷控制、光學(xué)鄰近效應(yīng)較正(OPC)、相位角、傳輸率等性能參數(shù)上。除制版工藝技術(shù)差距外,制版所用設(shè)備和原材料也需要大量進(jìn)口,除無塵物資以及部分制版用工藝化學(xué)品能夠國產(chǎn)外,以電子束曝光機為主的制版設(shè)備,以高純石英板和保護膜為主的制版原材料均依賴進(jìn)口,裝載盒等包裝材料也依賴進(jìn)口。


            總之,光刻掩膜技術(shù)是決定半導(dǎo)體產(chǎn)品技術(shù)發(fā)展的主要動力,我國必須不斷研究高制程掩;寮庸ぜ夹g(shù)與裝備,突破技術(shù)門檻,打破境外廠商對掩膜版的技術(shù)壟斷,為半導(dǎo)體等行業(yè)帶來關(guān)鍵材料的配套支持。


            2025年3月27日,由中國粉體網(wǎng)主辦的“2025第三屆集成電路及光伏用高純石英材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展大會”將在江蘇東海召開,屆時來自中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所高端光電裝備部徐學(xué)科部長,將做題為《高制程掩;寮庸ぜ夹g(shù)與裝備》的報告。




            參考來源:

            劉志海.我國光掩模玻璃基板的發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢

            曹可慰.掩模版標(biāo)準(zhǔn)現(xiàn)狀與發(fā)展方向

            陳婭麗.光掩膜石英玻璃基板的制造工藝概述

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            (中國粉體網(wǎng)編輯整理/初末)

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            作者:初末

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