中國粉體網(wǎng)訊  2025年3月27日，由中國粉體網(wǎng)主辦的2025第三屆集成電路及光伏用高純石英材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展大會在江蘇東海隆重召開，會議期間，我們與中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所高端光電裝備部的徐學(xué)科部長，對光掩膜基板工藝，其在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用以及國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀等一系列問題進(jìn)行了深入探討交流。

光掩膜基板：半導(dǎo)體制程的核心材料

掩模版，又稱為光罩，是投影光刻的必備關(guān)鍵材料。半導(dǎo)體掩模版制造具有投入高、規(guī)模小、技術(shù)精密度高且產(chǎn)品零缺陷等特點，而掩模基板是掩模版所使用的主要原材料。提及在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的地位與應(yīng)用，徐部長表示，首先，光掩膜基板是半導(dǎo)體制造中光刻工藝的核心材料，用于承載芯片設(shè)計圖案并轉(zhuǎn)移至晶圓，直接影響制程精度和良率；其次，作為芯片制造的上游關(guān)鍵材料，其技術(shù)門檻高，被少數(shù)國際企業(yè)壟斷，尤其在先進(jìn)制程（如5nm以下）中占據(jù)不可替代的戰(zhàn)略地位，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化的重要環(huán)節(jié)之一。

徐部長稱，光掩膜基板主要分為樹脂基板和玻璃基板兩類，其中玻璃基板因高精度需求多采用高純石英玻璃材料。高純石英玻璃憑借其高純度、耐高溫和低熱膨脹系數(shù)等特性，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝中，對芯片圖案轉(zhuǎn)移的精度起關(guān)鍵作用。目前國內(nèi)光掩膜基板呈現(xiàn)出中低端自給率提升，高端領(lǐng)域依賴進(jìn)口和國產(chǎn)替代加速的特點。

打通國內(nèi)基板制造產(chǎn)業(yè)鏈任重道遠(yuǎn)

高制程掩膜版的加工工藝主要包括涂膠、圖形光刻、顯影、蝕刻、檢測與缺陷修補等核心步驟。當(dāng)下高制程掩膜版生產(chǎn)主要存在設(shè)備依賴和材料與工藝精度兩方面的問題，特別是高精度光刻機（如電子束光刻機）、檢測設(shè)備和缺陷修補機長期被國外壟斷，國產(chǎn)替代困難�？偟膩碇v，硬件方面，無高端裝備可用；軟件方面，研發(fā)技術(shù)能力不足；裝備方面，國外高端裝備禁售、技術(shù)封鎖，徐部長這樣說道。

半導(dǎo)體掩模板長期被國外龍頭封鎖壟斷，那目前，我國的發(fā)展現(xiàn)狀如何？在技術(shù)上還存在哪些差距呢？徐部長向中國粉體網(wǎng)表示，目前我國掩模版在高端領(lǐng)域突破初期，技術(shù)差距主要在先進(jìn)制程能力不足，材料和設(shè)備依賴進(jìn)口還有設(shè)計復(fù)雜度與缺陷控制等方面。

徐部長最后說道，掩模板是一個系統(tǒng)工程，想要提升我國光掩膜板的技術(shù)實力，更好地為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)做支撐，必須打通國內(nèi)基板制造產(chǎn)業(yè)鏈，提升我國光掩膜版技術(shù)實力需多維度的協(xié)同合作，發(fā)動優(yōu)勢研發(fā)單位，攻克技術(shù)卡點，補齊產(chǎn)業(yè)短板；聯(lián)合上下游企業(yè)，加快支持國產(chǎn)裝備材料的驗證和技術(shù)迭代。頭部企業(yè)更要通過擴產(chǎn)高世代產(chǎn)線提升規(guī)模效應(yīng)，同時與晶圓廠、芯片設(shè)計公司形成穩(wěn)定供應(yīng)鏈，增強市場競爭力。

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/初末）

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