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顏料乳化機(jī)/高效顏料分散機(jī)/顏料納米分散機(jī)/顏料高剪切分散機(jī)

顏料是用來給物質(zhì)著色的材料，由能吸收或反射光的細(xì)小顆粒組成，可分散在多種介質(zhì)中，如涂料、塑料和紡織品。分為有機(jī)和無機(jī)兩大類，它們影響產(chǎn)品顏色及性能，應(yīng)用廣泛。

在顏料生產(chǎn)過程中，分散工藝是至關(guān)重要的一步，因?yàn)樗苯佑绊懙筋伭系木鶆蛐院头€(wěn)定性。顏料顆粒在分散過程中被均勻地分散在介質(zhì)中，這樣可以確保顏料在*終產(chǎn)品中具有一致的顏色強(qiáng)度和光澤。如果顏料顆粒聚集或分布不均，會(huì)導(dǎo)致顏色不均勻，影響產(chǎn)品的外觀和性能。此外，良好的分散工藝還能提高顏料的附著力和覆蓋力，減少顏料的用量，從而降低成本。因此，顏料分散工藝對于確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能至關(guān)重要。

目前傳統(tǒng)的顏料研磨分散設(shè)備主要是高速分散機(jī)（攪拌機(jī)）和砂磨機(jī)。

顏料的傳統(tǒng)分散工藝主要面臨以下問題：

批次式分散設(shè)備：混合分散時(shí)間長，能量消耗大，容易出現(xiàn)死角，維護(hù)成本高，產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定。

砂磨機(jī)研磨設(shè)備：生產(chǎn)效率低，分散時(shí)間過長，耗時(shí)耗能，細(xì)度分布不均，分離器堵塞。

IKN設(shè)備在顏料研磨分散工藝中的應(yīng)用

粉液混合設(shè)備

PLD粉液混合機(jī)可對顏料等其他粉體進(jìn)行在線潤濕，避免粉體飛揚(yáng)及發(fā)生團(tuán)聚。可代替攪拌設(shè)備及高速分散設(shè)備，縮短攪拌時(shí)間，節(jié)約能量。

PLD分散混合機(jī)的喂料可以通過在機(jī)器入口處安裝的漏斗來進(jìn)行。粉體喂料時(shí)可以完全手動(dòng)，也可以選擇半自動(dòng)或全自動(dòng)操作，同時(shí)您也可以選擇輸送機(jī)、氣動(dòng)裝貨設(shè)備或是其他的傳輸設(shè)備。 粉體可以直接從包裝袋中吸取，也可以通過一根管子被吸入機(jī)器。PLD分散混合機(jī)盡量減少粉體的與人直接接觸，避免周圍環(huán)境的污染，而且它減少了對人力的要求，使得喂料變得簡單易行。

膠體磨（錐體磨）

CM2000膠體磨及CMO2000膠體磨非同于介質(zhì)研磨設(shè)備，該設(shè)備有研磨細(xì)度小、研磨效率高等特點(diǎn)。特別指出的是錐體磨在研磨一些片狀顆粒時(shí)效果尤為顯著。

膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

高剪切分散機(jī)

ER2000高剪切分散機(jī)擁有超高剪切速率，依靠強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，可將顏料的團(tuán)聚物、絮凝物徹底打散分開，形成穩(wěn)定的體系。需要指出的是高剪切分散機(jī)在對球狀顆粒分散時(shí)效果特別顯著。