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        微錐陣列對碳納米管薄膜強流脈沖發(fā)射的影響

        編號:NMJS06175

        篇名:微錐陣列對碳納米管薄膜強流脈沖發(fā)射的影響

        作者:麻華麗[1] ;霍海波[1] ;曾凡光[1] ;向飛[2] ;王淦平[2]

        關鍵詞:碳納米管 強流脈沖發(fā)射 微錐陣列 單元尺寸 電場模擬

        機構: [1]鄭州航空工業(yè)管理學院理學院,鄭州450015; [2]中國工程物理研究院應用電子學研究所,高功率微波技術重點實驗室,綿陽621900

        摘要: 采用酞菁鐵高溫熱解方法,以化學鍍銅層為緩沖層,在具有微錐結構陣列的硅基底上制備了CNTs薄膜,并采用二極結構,在20 GW脈沖功率源系統(tǒng)中對其強流脈沖發(fā)射特性進行了測試。結果表明:在相同的峰值電場下,CNT薄膜的發(fā)射電流峰值隨基底微結構單元尺寸的減小而增大,且當脈沖電場的峰值增加時,CNT薄膜的發(fā)射電流的峰值增長速度隨基底微結構單元尺寸的減小而增大。結合利用有限元分析軟件ANSYS模擬計算的微錐陣列結構上表面的電場分布,研究了不同單元尺寸的微錐陣列對碳納米管薄膜強流脈沖發(fā)射能力的影響。

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