編號：NMJS06747
篇名：MoO_3修飾氧化石墨烯作為空穴注入層影響研究
作者：杜帥 張方輝
關(guān)鍵詞： 氧化石墨烯(GO) MOO3 空穴注入層 有機電致發(fā)光器件(OLED)
機構(gòu)： 陜西科技大學(xué)理學(xué)院
摘要： 研究了MoO3修飾氧化石墨烯（GO）作為空穴注入層的影響。采用旋涂的方法制備了GO,再真空蒸鍍修飾層MoO3,得到了空穴注入能力強和透過率高的復(fù)合薄膜。MoO3的厚分別采用0、3、5和8nm。通過優(yōu)化MoO3的厚度發(fā)現(xiàn),當MoO3的厚為5nm時,復(fù)合薄膜的透過率達到最大值,在550nm的光波長下透光率為88%,且此時采用復(fù)合薄膜作為空穴注入層制備的結(jié)構(gòu)為ITO/GO/MoO3（5nm）/NPB（40nm）/Alq3（40nm）/LiF（1nm）/Al（100nm）的有機電致發(fā)光器件（OLED）性能最佳。通過對OLED進一步的優(yōu)化,改變Alq3的厚度,分別取50、60和70nm,測量其電壓、電流、亮度、色坐標和電致發(fā)光（EL）光譜等參數(shù)發(fā)現(xiàn),當Alq3的厚為50nm時器件性能最佳。最終制備了結(jié)構(gòu)為ITO/GO/MoO3（5nm）/NPB（50nm）/Alq3（50nm）/LiF（1nm）/Al（100nm）的OLED,在電壓為10V時,最大電流效率達到5.87cd/A,與GO單獨作為空穴注入層制備的器件相比,提高了50%。
