編號(hào)：NMJS07403
篇名：金修飾磁性石墨烯基分子印跡復(fù)合材料的制備及對(duì)水中鄰苯二甲酸二正丁酯的電化學(xué)傳感檢測(cè)
作者：李穎 康君君 趙雪茹 徐文凱 齊琦
關(guān)鍵詞： 分子印跡技術(shù) 石墨烯 金納米粒子 傳感器 鄰苯二甲酸酯
機(jī)構(gòu)： 天津工業(yè)大學(xué)環(huán)境與化學(xué)工程學(xué)院
摘要： 以金修飾磁性石墨烯(Au@Fe3O4@RGO)為載體,通過表面分子印跡技術(shù),選擇水環(huán)境中鄰苯二甲酸二正丁酯(DBP)為模板分子,制備了金修飾磁性石墨烯基分子印跡復(fù)合膜(Au@Fe3O4@RGO-MIP);通過掃描電子顯微鏡(TEM)、X射線衍射(XRD)、傅里葉變換紅外光譜(FTIR)等測(cè)試手段對(duì)其進(jìn)行了分析表征.以Au@Fe3O4@RGO-MIP作為傳感器識(shí)別元件的敏感材料,利用循環(huán)伏安(CV)、電化學(xué)阻抗譜(EIS)和差分脈沖(DPV)等電化學(xué)分析方法,對(duì)構(gòu)建的分子印跡電化學(xué)傳感器進(jìn)行了性能分析,結(jié)果表明,該傳感器對(duì)水環(huán)境中DBP的響應(yīng)平衡時(shí)間為6 min,在0.01~0.1 μmol/L范圍內(nèi),DBP濃度與響應(yīng)電流之間呈現(xiàn)良好的線性關(guān)系,檢出限為0.3049 nmol/L(S/N=3).
