編號：CYYJ01901
篇名：氧化鋁拋光液對鋁合金化學機械拋光性能的研究(英文)
作者：張澤芳 張文娟 張善端 李富友
關鍵詞： 鋁合金 氧化鋁拋光液 化學機械拋光 光澤度 材料去除率
機構： 復旦大學先進照明技術教育部工程研究中心 復旦大學電光源研究所 南京映智新材料有限公司 臨汾博利士納米材料有限公司 復旦大學化學系高分子材料分子工程國家重點實驗室
摘要： 化學機械拋光(CMP)已成為金屬合金最具潛力的平坦化技術.為了優(yōu)化鋁合金CMP工藝,研究了磨料粒度、分散劑濃度以及pH調節(jié)劑對鋁合金CMP性能的影響.結果表明:隨著磨料粒度的增加,材料去除率(MRR)和平均表面粗糙度(Ra)均增加,而表面光澤度(Gs)降低.分散劑(聚乙二醇,PEG-600)的質量分數(shù)達到0.5%時,可以獲得最優(yōu)的表面質量和最佳的光澤度.漿料中添加適量的檸檬酸作為pH調節(jié)劑可同時獲得較優(yōu)的表面質量和較高的拋光效率,檸檬酸對鋁合金CMP性能的影響是腐蝕作用和螯合作用的綜合效應.此外,簡要討論了氧化鋁拋光液對鋁合金的靜態(tài)刻蝕機理和CMP機理.氧化鋁拋光液的最優(yōu)配方為Al2O3 3.3μm、H2O2 4%、PEG-600 0.5%和H3Cit 1.5%.
