編號：NMJS07572
篇名：聚乙烯醇改性對原子層沉積氧化鋁復合隔膜的影響
作者：于文匯 劉彥峰 王韞宇 李昌烽
關鍵詞： 聚乙烯膜 原子層沉積 表面改性 聚乙烯醇
機構： 江蘇大學能源與動力工程學院 廈門韞茂科技有限公司
摘要： 原子層沉積技術(ALD)是一種具有表面自限性反應的薄膜生長技術,可以精準控制薄膜的生長。本文研究了ALD技術包覆聚烯烴隔膜,制作納米氧化鋁聚烯烴復合隔膜。聚烯烴膜表面無ALD氧化鋁反應基團,造成ALD氧化鋁生長成核慢,前期反應效率低,最終生長的氧化鋁多形成團簇而非完整覆蓋的薄膜。為了增強ALD氧化鋁包覆聚乙烯膜(PE)的全覆蓋薄膜生長,將PE膜進行了聚乙烯醇(PVA)表面改性處理,然后進行ALD Al2O3生長。通過掃描電鏡、紅外光譜、電感耦合發(fā)射光譜儀等技術手段系統(tǒng)分析了PVA表面改性對ALD Al2O3包覆PE膜性能指標的影響。結果表明,PVA改性可以簡單有效地在PE膜上增加羥基(-OH)作為ALD反應位點。處理后的PE膜進行ALD Al2O3生長,前驅體進入反應腔室后更易與表面羥基進行反應,提高表面生長效率,纖維上均勻包覆氧化鋁,無島狀生長的Al2O3團簇。同時PVA改性可以增強復合膜的耐熱收縮性能,減少厚度增加,減輕機械結構的損壞。
