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        真空紫外光-TiO2催化降解氣態(tài)偏二甲肼

        編號:FTJS08036

        篇名:真空紫外光-TiO2催化降解氣態(tài)偏二甲肼

        作者:戴津星 賈瑛 許國根 商鵬溟

        關(guān)鍵詞: 偏二甲肼 廢氣 光催化 二氧化鈦 真空紫外光

        機(jī)構(gòu): 火箭軍工程大學(xué)

        摘要: 以鈦箔為載體,采用溶膠-凝膠法及浸漬-烘焙-煅燒法制備了負(fù)載型TiO2薄膜,并進(jìn)行了SEM,EDS,XRD表征。探討了TiO2薄膜對氣態(tài)偏二甲肼的光催化降解效果,并對比研究了不同紫外光源、不同初始濃度對氣態(tài)偏二甲肼降解效果的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:TiO2均勻負(fù)載在鈦箔上且為多孔狀的薄膜;偏二甲肼質(zhì)量濃度為877mg/m^3時(shí),反應(yīng)17min后偏二甲肼的降解率為99.99%,500mg/m^3時(shí)反應(yīng)60min后偏二甲肼的礦化率達(dá)到41.58%.

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