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        聚酰亞胺基碳納米微孔材料的制備及性能研究

        編號:NMJS08060

        篇名:聚酰亞胺基碳納米微孔材料的制備及性能研究

        作者:雷蕊英 季三飛 齊鍇亮 譚王景

        關鍵詞: 還原氧化石墨烯 聚酰亞胺 電磁屏蔽 微孔薄膜

        機構: 陜西工業(yè)職業(yè)技術學院電氣工程學院

        摘要: 采用改性的Hummers法制備了氧化石墨烯(GO),進一步水合肼還原制備了還原氧化石墨烯(RGO)。采用熱致相分離法制備了不同含量碳納米管(CNTs)/RGO填充的聚酰亞胺(PI)基復合微孔薄膜,并用X-射線衍射(XRD)分析了RGO的還原程度,利用紅外光譜(FTIR)和掃描電鏡(SEM)研究了微孔薄膜的結構,還考察了PI/CNTs/RGO復合微孔薄膜的力學性能和電磁屏蔽性能。結果表明:成功制得了RGO;CNTs/RGO的加入沒有影響PI的基本結構;當CNTs和RGO的質量分數(shù)均為2%時,泡孔結構規(guī)整且孔徑較大;CNTs/RGO的加入明顯提高了微孔薄膜的力學性能;CNTs的質量分數(shù)為2%時,隨著RGO含量的增加,微孔薄膜的電磁屏蔽效能也隨之提升,當RGO質量分數(shù)為1%時,PI/CNTs/RGO復合微孔薄膜的電磁屏蔽效能可達到10~12 dB。

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