編號：FTJS106885
篇名：鋁薄膜的制備及其性能研究
作者：楊正華 符姣姣 姚世鵬
關鍵詞： 磁控濺射 鋁薄膜 濺射功率 紅外發(fā)射率 電學性能
機構： 中國重型機械研究院股份公司
摘要： 采用直流磁控濺射法沉積鋁薄膜,利用掃描電子顯微鏡(SEM)、四探針電阻測試儀和紅外發(fā)射率測試儀對其形貌和性能進行表征,研究濺射功率(70、90、110、130 W)對鋁薄膜的沉積速率、表面形貌、電學性能和紅外發(fā)射率的影響規(guī)律。結果表明,隨濺射功率的增大,鋁薄膜的沉積速率逐漸增大,表面晶粒尺寸逐漸增大;鋁薄膜的電阻率先降低后升高,其紅外發(fā)射率呈現(xiàn)相同趨勢。當濺射功率為110 W時,鋁薄膜的紅外發(fā)射率最低(<0.12)。
