編號：CYYJ043442
篇名：含鎵石榴石系列大晶格常數(shù)磁光襯底單晶研究進展
作者：李泓沅 孫敦陸 張會麗 羅建喬 權(quán)聰 程毛杰
關鍵詞： 晶體生長 磁光襯底 含鎵石榴石晶體 提拉法 晶格常數(shù)
機構(gòu)： 中國科學院合肥物質(zhì)科學研究院 中國科學技術(shù)大學 安徽省先進激光技術(shù)實驗室 光子器件與材料安徽省重點實驗室
摘要： 近年來,光通信技術(shù)與集成電子器件飛速發(fā)展,以稀土鐵石榴石(RIG)為代表的磁光薄膜被視為應用于近紅外通信窗口最具潛力的磁光材料。為了盡量減小磁光薄膜在制備過程中相關性能受到的影響,襯底材料的選擇成為關鍵。制備RIG磁光薄膜通常采用Si類及石榴石氧化物類作為襯底材料。RIG磁光薄膜的晶格常數(shù)一般在12.4左右,含鎵類石榴石氧化物單晶襯底基片與其晶格常數(shù)相近,具有大晶格常數(shù)特性,是其合適的襯底材料之一。但是,由于原料氧化鎵高溫易揮發(fā),使含鎵類石榴石單晶制備成為一直以來關注和討論的熱點。深入研究含鎵類石榴石襯底單晶有望促進新一代磁光器件的發(fā)展。本文綜述了在含鎵類石榴石系列單晶中,氧化物磁光襯底單晶的研究進展,總結(jié)了本團隊在該類晶體生長、晶體結(jié)構(gòu)、關鍵參數(shù)等方面的研究工作,展望了該類晶體的研究發(fā)展趨勢。
