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            DYNO?-MILL ECM - AP 10 渦輪盤式分散珠磨機(jī)
            DYNO?-MILL ECM - AP 10 渦輪盤式分散珠磨機(jī)

            參考價(jià)格

            150-200萬元

            型號(hào)

            AP10

            品牌

            WAB

            產(chǎn)地

            瑞士

            樣本

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            華爾寶機(jī)械(深圳)有限公司

            金牌會(huì)員

            |

            第15年

            |

            生產(chǎn)商

            工商已核實(shí)

            留言詢價(jià)
            核心參數(shù)
            • 粉碎程度:

              超細(xì)粉碎
            • 單位能耗:

              每小時(shí)耗電量在25-37度左右
            • 產(chǎn)量:

              1.3-2.5噸/小時(shí)
            • 裝機(jī)功率(kw):

              30-37
            • 成品細(xì)度:

              納米級(jí)別
            • 入料粒度(mm):

              最大0.5
            • 工作原理:

              介質(zhì)研磨
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            DYNO?-MILL ECM-AP

            大流量和高粘度產(chǎn)品的理想之選

            高效分散珠磨機(jī)設(shè)計(jì)的演變

            創(chuàng)新型 DYNO?-MILL ECM-AP 系列旨在提高產(chǎn)量。

            研磨效率高,可研磨到納米級(jí)范圍。具有自清潔效果的**分離系統(tǒng),提高了對(duì)高粘性產(chǎn)品的可駕駛性。可以避免因篩網(wǎng)堵塞清洗而導(dǎo)致生產(chǎn)的中斷。針對(duì)高粘性產(chǎn)品,這是一個(gè)非常大的優(yōu)勢(shì)。


            功能

            研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的特點(diǎn)是流量?jī)?yōu)化和導(dǎo)向研磨介質(zhì)回路。研磨介質(zhì)在導(dǎo)流環(huán)的軸向引導(dǎo)下通過篩網(wǎng)表面。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質(zhì)輸送回導(dǎo)流環(huán),而不會(huì)將其撕裂。

            研磨介質(zhì)在篩面上的軸向引導(dǎo)有助于將較粗的顆粒從其流經(jīng)的橫截面上清除,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統(tǒng)獨(dú)特的自清潔效果的基礎(chǔ)。


            優(yōu)勢(shì)


            • 缸體凈容積為9升,采用WAB高效渦輪加速器,比傳統(tǒng)盤片式機(jī)型效率提升6~8倍

            • 渦輪加速器能確保研磨珠高能量均勻運(yùn)動(dòng),從而保證了高效一致的能量輸入,能滿足黏度從低到高各種產(chǎn)品的研磨需求

            • 較小的研磨容積和理想的冷卻效果確保了對(duì)溫度敏感產(chǎn)品的順利研磨

            • 不用打開缸體就能更換篩網(wǎng),便于維護(hù)保養(yǎng)

            • 材質(zhì)和設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了更為方便的清洗,節(jié)省了清洗時(shí)間和成本,很好地適應(yīng)客戶在多種產(chǎn)品之間的快速轉(zhuǎn)換

            • 缸體和渦輪盤有不銹鋼,硬化不銹鋼,碳化硅,硬鉻合金,氧化鋯等材質(zhì)選擇,確保了更長的使用壽命

            • AP系列還有0.5升,1.9升,21升,62升等缸體容積可供客戶選擇


            創(chuàng)新點(diǎn)

            研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)的特點(diǎn)是流量?jī)?yōu)化和導(dǎo)向研磨介質(zhì)回路。研磨介質(zhì)在導(dǎo)流環(huán)的軸向引導(dǎo)下通過篩網(wǎng)表面。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質(zhì)輸送回導(dǎo)流環(huán),而不會(huì)將其撕裂。

            研磨介質(zhì)在篩面上的軸向引導(dǎo)有助于將較粗的顆粒從其流經(jīng)的橫截面上清除,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統(tǒng)獨(dú)特的自清潔效果的基礎(chǔ)。

            適用于高產(chǎn)量和高粘度產(chǎn)品
            更靈活地選擇工藝參數(shù)
            提供金屬和陶瓷款式
            研磨腔內(nèi)研磨介質(zhì)密度分布均勻,可實(shí)現(xiàn)最高效率
            可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質(zhì)進(jìn)行高效研磨
            加速器使研磨珠產(chǎn)生有力的流體運(yùn)動(dòng),從而降低的能耗
            整體優(yōu)化流量控制,實(shí)現(xiàn)最佳顆粒停留時(shí)間分布
            適用于生產(chǎn)所有類型的納米懸浮液
            適合通道模式和循環(huán)模式
            研磨腔可提供專利排氣系統(tǒng)排氣
            屏幕壽命長
            機(jī)器操作簡(jiǎn)單且符合人體工程學(xué)原理,可實(shí)現(xiàn)最快的產(chǎn)品更換
            在更換產(chǎn)品時(shí)將清潔劑的成本降至最低
            通過對(duì)研磨腔進(jìn)行有效冷卻,可研磨對(duì)溫度敏感的產(chǎn)品
            先進(jìn)的控制理念使得研磨機(jī)非常易于操作
            低噪音
            多種控制解決方案

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            用戶評(píng)論

            產(chǎn)品質(zhì)量

            10分

            售后服務(wù)

            10分

            易用性

            10分

            性價(jià)比

            10分
            評(píng)論內(nèi)容
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            從納米到藥物產(chǎn)品: GLATT 和 WAB-GROUP?共同攜手合作為制藥業(yè)提供獨(dú)特的解決方案

            WAB-GROUP? 和 Glatt Pharmaceutical Services CDMO Unlimited 強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手,運(yùn)用他們的專業(yè)知識(shí)為您提供高端納米研磨和顆粒設(shè)計(jì)服務(wù),以提高藥物的溶解度。

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