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石墨盤專用真空烤盤爐
產(chǎn)品介紹：真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。
應(yīng)用范圍：
主要用于有效清除MOCVD承受器 （SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。
設(shè)計(jì)特點(diǎn)：
1、后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)
2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟，同時(shí)兩端降溫封頭開啟， 爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向
3、通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn) 行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的
內(nèi)部系統(tǒng)結(jié)構(gòu)及原理：
技術(shù)參數(shù)：
設(shè)計(jì)特點(diǎn)：1、后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟，同時(shí)兩端降溫封頭開啟， 爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3、通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn) 行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的
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