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日本Nikon 6英寸分步重復(fù)光刻機NSR 1755i7B
技術(shù)指標(biāo)及功能
把掩膜版上的圖形按照一定的比例縮小復(fù)制到涂布有光刻膠的晶圓上，分區(qū)域進行步進式曝光。本機臺可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光，曝光精度可達500nm。
基本指標(biāo)
1. RESOLUTION：0.5μm
2. LENS DISTORTION：≤0.9μm
3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm
4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm
5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X，Y)
6. OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA)：17.5×17.5mm
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