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濺射離子槍主要用途:
濺射清洗/表面科學(xué)中樣品表面處理， MBE and HV 濺射過程
離子輔助沉積
離子束濺射鍍膜
反應(yīng)離子刻蝕
技術(shù)指標(biāo):
| 離子能量 | 25eV - 5keV |
| 總的離子束電流 | 1mA (at 5kV with Argon) High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon) |
| 電流密度 | 120μA/cm2 at 100mm working distance |
| 離子束發(fā)散角 | Ion energy dependant (typically 15°) |
| 工作距離 | 100 mm (typically) |
| 等離子體杯 | Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons) |
| 氣體進氣口徑 | CF-16 (1.33“OD) |
| 氣體流速 | 1 - 5 sccm (1，5 sccm typical， gas dependant) |
| 工作真空度 | 10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max. |
| 激發(fā)模式 | 微波放電等離子體 (無燈絲) |
| 安裝口徑 | CF-35 (2.75“OD) |
| 槍直徑 | 34mm (真空端) |
| 泄露閥 | 需要氣體質(zhì)量流量計 |
暫無數(shù)據(jù)！
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