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        濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)
        濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)

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        面議

        型號(hào)

        品牌

        產(chǎn)地

        美國(guó)

        樣本

        暫無(wú)
        邁可諾技術(shù)有限公司

        會(huì)員

        |

        第2年

        |

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        濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)

        手動(dòng)型SCS112

        SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的系統(tǒng),專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片??赏ㄟ^(guò)施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來(lái)清潔安裝在環(huán)(抓環(huán))或膠片框架上的晶圓,然后使用高轉(zhuǎn)速,氮?dú)廨o助或紅外加熱燈進(jìn)行快速干燥。該系統(tǒng)**可處理8英寸晶圓。

        功能:

        • 可處理高達(dá)8英寸的晶圓,包括未安裝的晶片以及膠帶環(huán)形和薄膜框架安裝晶片。

        • 振蕩高壓直流水,風(fēng)扇射流組裝(取決于高達(dá)15002000/平方英寸配置上)或霧化噴霧噴嘴,高效清潔。

        • 快速有效干燥的氮?dú)獯祾吆脱h(huán)結(jié)束時(shí)的氮晶片提升。

        • 微處理器控制并儲(chǔ)存多種配方。

        • 直流無(wú)刷主軸電機(jī)變速。

        • DI水凈化,營(yíng)造無(wú)細(xì)菌系統(tǒng)。

        • 內(nèi)置安全聯(lián)鎖和正極蓋,運(yùn)行期間鎖定。

        選項(xiàng):

        • 托盤,**可裝載8英寸晶片

        • 用于干燥的紅外線加熱燈

        • 消除靜電的二氧化碳再生離子器

        • 內(nèi)置排氣鼓風(fēng)機(jī)

        • 真空發(fā)生器

        產(chǎn)品參數(shù):

        • 產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng)

        • 型號(hào):SCS112

        • 可用機(jī)械臂:1

        • **基板尺寸:高達(dá)8英寸的晶圓片

        • **主軸速度:2500

        • 配方:*多3

        • 分配:1

        • 尺寸:26英寸寬x 21英寸深x 40英寸高

        • 重量:約200

        • 功率:220伏交流電,10安培,50/60赫茲

        手動(dòng)型SCSe124

        SCSe124型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案。該系統(tǒng)非??煽壳揖哂谐杀拘б?,它經(jīng)過(guò)驗(yàn)證,擁有各種清潔技術(shù)。SCSe124可以配置幾種不同的清潔選項(xiàng),包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等??焖儆行У母稍锛夹g(shù)是結(jié)合了可變轉(zhuǎn)速和可選項(xiàng)加熱DI水,氮?dú)廨o助或加熱燈。SCSe124具有微處理控制器,該控制器可調(diào)整過(guò)程參數(shù),并儲(chǔ)存多達(dá)10個(gè)程序。

        功能:

        • 可處理直徑高達(dá)10英寸的基板。

        • 主軸組件帶有直流無(wú)刷電機(jī)(可升級(jí)以獲得更多功能)。

        • 可調(diào)節(jié)機(jī)械臂速度和行程位置。

        • 徑向排氣腔,可實(shí)現(xiàn)**層流。

        • 獨(dú)立式聚丙烯腔室。

        • 微處理器可控制10個(gè)程序段。

        • 內(nèi)置安全聯(lián)鎖。

        • 按鈕蓋啟動(dòng)打開/關(guān)閉。

        • 觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。

        • *多可使用2個(gè)機(jī)械臂。

        產(chǎn)品參數(shù):

        • 產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng)

        • 型號(hào):SCSe124

        • 可用機(jī)械臂:2

        • **基板尺寸:直徑10英寸晶圓片

        • **主軸速度:2500

        • 配方:*多10

        • 分配:12

        手動(dòng)型SCSe126

        SCSe126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案。該系統(tǒng)非??煽壳揖哂谐杀拘б?,它經(jīng)過(guò)驗(yàn)證,擁有各種清潔技術(shù)。SCSe126可以配置幾種不同的清潔選項(xiàng),包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等??焖儆行У母稍锛夹g(shù)是結(jié)合了可變轉(zhuǎn)速和可選項(xiàng)加熱DI水,氮?dú)廨o助或加熱燈。SCSe126具有微處理控制器,該控制器可調(diào)整過(guò)程參數(shù),并儲(chǔ)存多達(dá)10個(gè)程序。

        功能:

        • 可處理直徑高達(dá)10英寸的基板。

        • 主軸組件帶有直流無(wú)刷電機(jī)(可升級(jí)以獲得更多功能)。

        • 可調(diào)節(jié)機(jī)械臂速度和行程位置。

        徑向排氣腔,可實(shí)現(xiàn)**層流。

        獨(dú)立式聚丙烯腔室。

        微處理器可控制10個(gè)程序段。

        內(nèi)置安全聯(lián)鎖。

        按鈕蓋啟動(dòng)打開/關(guān)閉。

        觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。

        *多可使用4個(gè)機(jī)械臂。

        產(chǎn)品參數(shù):

        • 產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng)

        • 型號(hào):SCSe126

        • 可用機(jī)械臂:4

        • **基板尺寸:直徑10英寸晶圓片

        • **主軸速度:2500

        • 配方:*多10

        • 分配:12

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        10分

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        10分

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