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        NEE-4000 (M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
        NEE-4000 (M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

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        電子束蒸發(fā)技術(shù)

        NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述:NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,其中樣品臺位于主腔體內(nèi),二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預(yù)真空鎖,使得電子束源腔體保持真空的情況下,實(shí)現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基片時,他可以通過第三方的預(yù)真空鎖來實(shí)現(xiàn),這可以設(shè)置于立方體的左側(cè)。通過PC計算機(jī)控制,系統(tǒng)可以提供多電子束源的共蒸發(fā)能力,以及對組分或組分梯度進(jìn)行編程的能力。

        NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)特點(diǎn):

        • 順序蒸發(fā)或共蒸發(fā)

        • 雙電子束源

        • 多凹槽電子槍

        • 可編程電子束掃描

        • 10KW開關(guān)電源

        • 渦輪分子泵,極限真空5x10-7Torr

        • 手動上下載片,帶預(yù)真空鎖

        • 材料和襯墊更換非常方便

        • 晶振式膜厚監(jiān)測儀

        • 通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計算機(jī)控制

        • 菜單驅(qū)動,四級訪問密碼保護(hù)

        • 完全的安全聯(lián)鎖

        NEE-4000(M)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)Features:

        • Sequential or Co-Evaporation

        • Dual E-Beam Source

        • Multi-Pocket E-Gun

        • Programmable Beam Scan

        • 10 KW Switching Power Supply

        • Turbomolecular Pump, 10-7Torr

        • Manual Load/Unload w/Load Lock

        • Easy Material and Liner Change

        • Crystal Thickness Monitor

        • PC Controlled with LabVIEW

        • Recipe Driven, Password Protected

        • Fully Safety Interlocked

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