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BHO200型超高溫氧化爐品牌
拉普拉斯產(chǎn)地
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項 目 | 高溫氧化爐 |
功 能 | ? 用于SiC、GaN等高溫氧化工藝 ? 滿足真空/氣氛高溫氧化工藝 |
重要參數(shù) | ? **晶圓尺寸：滿足6寸以下晶圓工藝要求 ? **載片量：50片/批 ? **加熱溫度：1500℃ |
裝卸片方式 | ? 立式垂直升降 ? 立式真空密封系統(tǒng) |
拉普拉斯新能源科技股份有限公司（LAPLACE Renewable Energy Technology Co., Ltd.）成立于2016年，是一家由多位海內(nèi)外半導體設備領域高端人才創(chuàng)立的高科技高端裝備研發(fā)制造企業(yè)。拉普拉斯致力于成為**的泛半導體領域核心工藝解決方案提供商。
拉普拉斯現(xiàn)有人數(shù)規(guī)模超過1840人，公司擁有一支包含多名外籍專家和多名博士在內(nèi)的核心研發(fā)團隊，研發(fā)人員占比14.89%，技術人員占比27.28%。公司在深圳坪山區(qū)擁有一座8000平方米的研發(fā)中心和生產(chǎn)廠房，公司在無錫占地137畝，一期**棟廠房13000平方米已建設完成并投入使用，可滿足單月產(chǎn)能400臺套以上的生產(chǎn)需求，未來2-3年將快速完成二期和三期的工廠建設規(guī)劃。
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