參考價格
面議型號
PECVD設備品牌
鵬城半導體產(chǎn)地
廣東樣本
暫無誤差率：
-分辨率：
-重現(xiàn)性：
-儀器原理：
其他分散方式：
-測量時間：
-測量范圍：
-看了PECVD設備的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
PECVD設備（等離子體增加強化學氣相沉積PECVD）主要用于在潔凈真空環(huán)境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長；采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高質(zhì)量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。
設備用途和功能特點
1、該設備是高真空單頻或雙頻等離子增強化學氣相沉積PECVD薄膜設備，主要用于制備氮化硅和氧化硅薄膜。
2、設備保護功能強，具備真空系統(tǒng)檢測與保護、水壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護。
3、配置尾氣處理裝置。
暫無數(shù)據(jù)！
PECVD設備的工作原理介紹？PECVD設備的使用方法？PECVD設備多少錢一臺？PECVD設備使用的注意事項PECVD設備的說明書有嗎？PECVD設備的操作規(guī)程有嗎？PECVD設備的報價含票含運費嗎？PECVD設備有現(xiàn)貨嗎？PECVD設備包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
