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SSB500系列步進光刻機品牌
上海微電子產(chǎn)地
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產(chǎn)品特征
出色的污染防護
全折射式投影物鏡提供了超長工作距，以及封閉式的物鏡和照明系統(tǒng)，避免光刻膠等有機物揮發(fā)造成光路污染。
工藝適應性強
厚膠曝光時可通過調整NA來獲得更大焦深，支持高深寬比圖形曝光。擁有獨特的晶圓傳輸系統(tǒng)、垂向大行程工件臺系統(tǒng)和精密調焦調平系統(tǒng)，可支持Fan-Out制程中的大翹曲片、鍵合片和厚片曝光工藝?？蛇x配紅外或可見光背面對準方式，支持TSV和MEMS等制程所需的背面對準。支持拓展至600mm×600mm方板曝光制程。
高精度
SSB500系列光刻機提供多種投影物鏡和曝光光源配置，分辨率可達到0.8~2μm，并具有高線寬均勻性。配置高精度MVS對準系統(tǒng)和低畸變投影物鏡，支持特征圖形標記和光柵標記，保證了高精度套刻性能。
高產(chǎn)率
SSB500系列光刻機配置了高照度照明系統(tǒng)、高速傳輸系統(tǒng)、高速高精度運動臺系統(tǒng)和大曝光視場，實現(xiàn)高產(chǎn)率，顯著降低客戶擁有成本。
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