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特長
１．所有的表面狀態(tài)都是即時的。
２．我們的光學(xué)系統(tǒng)對應(yīng)是1級的。
３．光學(xué)系統(tǒng)是免維護(hù)的。
４．根據(jù)檢查內(nèi)容，檢測靈敏度/檢測放大率可以進(jìn)行變更
５．根據(jù)每個樣品和檢查位置定制**光學(xué)系統(tǒng)。

產(chǎn)品詳情：

●設(shè)備概要
1.利用魔鏡原理，觀察那些目視無法確認(rèn)的晶圓鏡面樣品表面上的micro缺陷。
2.凹面缺陷則較為明亮、凸面缺陷則較為暗淡。通過明暗測定缺陷種類、缺陷位置、以及缺陷尺寸。
3.可檢測晶圓表面的Dimples、凹凸、研削痕、研磨痕、滑移線、Edge缺陷、翹曲、變形等異常。

●設(shè)備用途
. 切割，研削，研磨，拋光，外延及退火后硅片表面檢測（量產(chǎn)用）
. SiC，GaN等化合物晶圓表面缺陷檢測
. 藍(lán)寶石，水晶，玻璃晶圓的表面以及內(nèi)部缺陷檢測
. 各工程的晶圓抽樣檢測用（線下用）

●設(shè)備特長
１．所有表面狀態(tài)均是瞬時檢測
２．光學(xué)系統(tǒng)對應(yīng)1級光學(xué)系統(tǒng)
３．光學(xué)系統(tǒng)免維護(hù)
４．根據(jù)檢查內(nèi)容、檢測靈敏度、檢測放大率可進(jìn)行變更
５．根據(jù)每個樣品和檢查位置定制**光學(xué)系統(tǒng)。

●自動畫像解析功能
可基于檢測前所設(shè)定的缺陷判斷臨界值，對自動取得的圖像進(jìn)行畫像解析，缺陷種類判別，缺陷部位的可視化，位置坐標(biāo)算出、缺陷尺寸表示等工作。