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等離子體修飾系統(tǒng)品牌
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等離子體修飾系統(tǒng),利用三溫區(qū)管式爐,通過氧氣輔助化學(xué)氣相沉積技術(shù),在藍(lán)寶石襯底上外延生長了大尺寸、高質(zhì)量的單層二硫化鉬薄膜。在生長過程中引入氧氣,不僅能夠阻止三氧化鉬源中毒,降低形核密度,而且還能減小硫空位密度,從而實(shí)現(xiàn)了大尺寸單晶單層二硫化鉬的生長。
利用等離子體修飾系統(tǒng),在自限生長的前提下,目前已實(shí)現(xiàn)了兩英寸晶圓級(jí)高質(zhì)量單層二硫化鉬的外延生長(100%覆蓋度,成膜均勻),并通過改進(jìn)轉(zhuǎn)移設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了晶圓級(jí)薄膜的零污染且襯底無損轉(zhuǎn)移。單層二硫化鉬薄膜均勻覆蓋在整個(gè)藍(lán)寶石襯底上,而且沒有縫隙,沒有重疊層。 薄膜由晶粒尺寸為 1 微米,相對(duì)取向?yàn)?60 o的晶粒拼接而成。成型薄膜只包含 60 o晶界。
等離子體修飾系統(tǒng)產(chǎn)品優(yōu)勢
1、避免固態(tài)源中毒;
2、成膜均勻性好;
3、成膜面積大;
4、快速、生長速度可控。
暫無數(shù)據(jù)!
國產(chǎn)電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自主可控,是實(shí)現(xiàn)我國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日,澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實(shí)驗(yàn)室開展的全自主電子束光刻機(jī)整機(jī)的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目取得重大進(jìn)展,成功研制出電子束光刻系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了
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