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        金剛石拋光的“煩惱”


        來源:中國粉體網(wǎng)   空青

        [導(dǎo)讀]  天岳先進申請一項名為“一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法”,該專利是一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法,屬于金剛石拋光技術(shù)領(lǐng)域。

        中國粉體網(wǎng)訊  近日,天岳先進申請一項名為“一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法”,該專利是一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法,屬于金剛石拋光技術(shù)領(lǐng)域。


        拋光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖


        1、負載;2、載樣盤;3、金剛石襯底;4、拋光布;5、拋光盤;6、雙氧水;7、混合容器;8、攪拌器;9、拋光液;10、


        該申請的拋光液主要是由金剛石微粉、三價鐵鹽、雙氧水和水組成。該拋光液中金剛石襯底所受壓強較大,其是與拋光液中產(chǎn)生的羥基自由基的速度相匹配的,該壓強和轉(zhuǎn)速及流量與拋光液成分及補加的雙氧水的量相互協(xié)同,從而實現(xiàn)對金剛石襯底的高效、穩(wěn)定拋光,并提高批量化拋光的金剛石襯底的表面一致性,有利于金剛石襯底的工業(yè)化生產(chǎn)。


        金剛石襯底:拋光技術(shù)“上大分”


        近年來,在電動汽車和5G通信等新興產(chǎn)業(yè)的推動下,以碳化硅和氮化鎵為主的第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)受到廣泛關(guān)注,迎來飛速發(fā)展時期。而金剛石是下一代功率器件最有希望的候選材料,其禁帶寬度(5.5eV),熱導(dǎo)率(2000 W/m·K)和擊穿場強(>10 MV/cm)比碳化硅更高,并且具有穩(wěn)定的化學(xué)特性和極強的抗輻照性能。


        金剛石現(xiàn)已被應(yīng)用在眾多高能量密度領(lǐng)域,未來將擁有極大的發(fā)展前景。目前歐美日等發(fā)達國家和地區(qū)已經(jīng)對金剛石半導(dǎo)體相關(guān)領(lǐng)域展開深入研究,并取得重要進展,已研制出多種高功率、耐高溫和抗輻射的半導(dǎo)體器件,如肖特基二極管、場效應(yīng)晶體管、深紫外探測器等。 


        2英寸異質(zhì)外延單晶金剛石自支撐襯底,來源:西安交大


        而制備高質(zhì)量單晶金剛石襯底是金剛石在半導(dǎo)體領(lǐng)域得以應(yīng)用的前提,拋光技術(shù)將會在這一過程中發(fā)揮重要的作用,其中主要包括兩個方面:其一,拋光可以用于制備CVD法同質(zhì)外延生長單晶金剛石的籽晶,籽晶的表面質(zhì)量將直接影響單晶金剛石的生長質(zhì)量;其二,拋光可用于制備高質(zhì)量單晶金剛石襯底,應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的襯底,不僅要求保持面型和納米級的粗糙度,還要避免表面及亞表面損傷。因為器件層通過化學(xué)氣相沉積生長,金剛石襯底的質(zhì)量將直接影響外延層結(jié)晶質(zhì)量。目前在生長得到CVD單晶金剛石之后,其表面通常會產(chǎn)生許多缺陷,如小丘、臺階等,所以對其進行平坦化拋光是非常必要的。 


        由此可見,拋光技術(shù)在制備金剛石襯底中的重要性,尤其是大尺寸高質(zhì)量的金剛石襯底。此外,相比其他應(yīng)用,金剛石襯底應(yīng)用要求表面及亞表面損傷更少,這對拋光提出了更高的要求?蛇@對“剛硬”的金剛石而言,不是一件容易的事情。


        金剛石拋光的“煩惱”


        金剛石作為一種具有極高硬度和硬脆特性的材料,廣泛應(yīng)用于各個領(lǐng)域。目前需要對金剛石晶體進行切割、研磨、拋光等工序才能夠?qū)饎偸M行工業(yè)化利用。金剛石表面的微小不平整和雜質(zhì)會影響其光學(xué)和電子性能,由于金剛石的硬度極高,傳統(tǒng)的拋光方法往往無法實現(xiàn)對金剛石表面的原子級粗糙度的控制,因此也極大地限制了金剛石的應(yīng)用;瘜W(xué)機械拋光具有高精度、低損傷等優(yōu)點,適合金剛石的精拋光,但金剛石極佳的化學(xué)穩(wěn)定性大大降低了拋光效率。


        目前一些研究人員采用芬頓試劑對硅、碳化硅、氮化鎵等材料進行拋光,利用亞鐵離子與雙氧水的氧化性對材料表面進行氧化拋光,然而芬頓試劑中,亞鐵離子與雙氧水的氧化速度極快,將其用于金剛石襯底的拋光時:一是會使得反應(yīng)初期氧化速度極快,使得拋光工藝無法與氧化速度匹配,無法實現(xiàn)均勻拋光;二是隨著亞鐵離子的急劇消耗,反應(yīng)難以長時間維持,使得拋光難以有效進行。上述兩種情況均使得金剛石襯底的表面不平整,拋光效果差,難以實現(xiàn)金剛石表面原子級粗糙度的控制。


        此次,天岳先進提供的拋光方法解決了以上問題,該拋光液通過使用微溶于水的鐵鹽來實現(xiàn)鐵源的供給,能夠在雙氧水的存在下實現(xiàn)羥基自由基的穩(wěn)定供應(yīng),從而有效去除金剛石表面的雜質(zhì),實現(xiàn)對金剛石表面的原子級粗糙度的控制。


        金剛石自身的耐氧化和超硬特性,使的金剛石的拋光過程是一個平衡化學(xué)氧化作用和機械磨削作用的復(fù)雜過程。隨著科技的進步和工藝的創(chuàng)新,金剛石拋光技術(shù)正朝著更高效、更環(huán)保、更精準(zhǔn)的方向發(fā)展。


        來源:

        國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)

        溫海浪等:大尺寸單晶金剛石襯底拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀與展望


        (中國粉體網(wǎng)編輯整理/空青)

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        作者:空青

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