中國(guó)粉體網(wǎng)訊  近日，博來(lái)納潤(rùn)宣布，“年產(chǎn)18000噸納米氧化硅、34000噸半導(dǎo)體CMP拋光液和115萬(wàn)平方米CMP拋光墊材料項(xiàng)目”已完成第一階段項(xiàng)目封頂。

化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)被譽(yù)為是當(dāng)今時(shí)代能實(shí)現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面全局平坦化的目前唯一技術(shù)，化學(xué)機(jī)械拋光的效果直接影響到芯片最終的質(zhì)量和成品率。CMP通過(guò)拋光液中化學(xué)試劑的化學(xué)腐蝕和機(jī)械磨削的雙重耦合作用，在原子水平上去除表面缺陷，獲得全局平坦化表面，拋光墊在CMP過(guò)程中起到了儲(chǔ)存拋光液、輸送拋光液、排出廢物、傳遞加工載荷、保證拋光過(guò)程平穩(wěn)進(jìn)行等作用。

CMP工藝  來(lái)源：何潮等，半導(dǎo)體材料CMP過(guò)程中磨料的研究進(jìn)展

浙江博來(lái)納潤(rùn)電子材料有限公司專(zhuān)注于為泛半導(dǎo)體行業(yè)平坦化材料提供整體解決方案，致力于電子級(jí)納米氧化硅磨料、泛半導(dǎo)體用CMP拋光液、拋光墊等產(chǎn)品的技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，為半導(dǎo)體襯底等材料的納米級(jí)平坦化提供工藝材料整體解決方案。公司擁有10余年的CMP研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化基礎(chǔ)，主要產(chǎn)品包括硅溶膠、拋光液、拋光墊，應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋碳化硅襯底CMP制程、硅襯底CMP制程、集成電路CMP制程、其他泛半導(dǎo)體材料CMP制程。

2023年9月20日上午，博來(lái)納潤(rùn)“年產(chǎn)18000噸納米氧化硅、34000噸半導(dǎo)體CMP拋光液和115萬(wàn)平方米CMP拋光墊材料項(xiàng)目”開(kāi)工奠基儀式在智造新城高新片區(qū)舉行，項(xiàng)目進(jìn)入施工建設(shè)階段。博來(lái)納潤(rùn)董事長(zhǎng)、總經(jīng)理張澤芳博士表示，該項(xiàng)目是博來(lái)納潤(rùn)在國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn)“為泛半導(dǎo)體行業(yè)的平坦化工藝提供材料整體解決方案”戰(zhàn)略落地的重要一環(huán)，也是作為應(yīng)對(duì)CMP材料被進(jìn)口“卡脖子”，實(shí)現(xiàn)CMP材料國(guó)產(chǎn)化最重要的一步。

項(xiàng)目分兩期實(shí)施，其中，一期總投資計(jì)劃約4.54億元，以租賃廠房過(guò)渡結(jié)合同步購(gòu)置土地的形式，建設(shè)年產(chǎn)6000噸納米氧化硅、14000噸半導(dǎo)體CMP拋光液和55萬(wàn)平方米CMP拋光墊材料項(xiàng)目；項(xiàng)目二期總投資計(jì)劃約7.24億元，建設(shè)年產(chǎn)12000噸納米氧化硅、20000噸半導(dǎo)體CMP拋光液和60萬(wàn)平方米CMP拋光墊材料項(xiàng)目。

來(lái)源：博來(lái)納潤(rùn)官網(wǎng)

近日，公司宣布，該項(xiàng)目已完成第一階段項(xiàng)目封頂。

參考來(lái)源：

[1] 燕禾等，化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

[2] 嚴(yán)嘉勝等，硅晶片化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展

[3] 曹威等，化學(xué)機(jī)械拋光墊的研究進(jìn)展

[4] 何潮等，半導(dǎo)體材料CMP過(guò)程中磨料的研究進(jìn)展

[5] 浙江投促、博來(lái)納潤(rùn)官網(wǎng)

（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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