看了無掩膜曝光機,激光直寫的用戶又看了
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市場上使用405納米激光器的**分辨率600納米的結構
405納米激光源，可用于要求更高的應用
緊湊型光學模塊：使用備用光學模塊減少機器停機時間
用戶友好操作
獨特的研發(fā)機會
405nm光學模塊將允許系統(tǒng)*小線寬達到600納米
能力
-市場上使用壽命長的405納米激光器的**分辨率。
-*小線寬達到600納米
-高達4095級的直寫灰度
-375納米激光可用于要求更高的應用(選配：375納米激光)。
-光柵模式和矢量模式可用。
-軟件可控制的寫入模式選擇。
-實時自動聚焦成為可能。
-支持從5mm x 5mm到125mm x 125mm的基板
操作
-現(xiàn)代的基于Microsoft Windows的用戶界面允許用戶友好的操作。
-高度自動化的處理，一鍵操作。
-遠程互聯(lián)網(wǎng)支持
安裝和維護
- MLW-100是一個緊湊的桌面系統(tǒng)，需要*小的清潔空間。
-緊湊型光學模塊：使用備用光學模塊來減少機器停機時間。
-安裝快速方便：除操作PC和真空泵外，所有主要部件
安裝在外殼內。
-維護成本*低，無需定期維護。
緊湊型光學模塊，具有**的穩(wěn)定性和短停機時間
完整的光學路徑包含在一個小的可更換模塊（光學模塊）中。通過盡可能短的優(yōu)化路徑，與傳統(tǒng)的優(yōu)化設置相比，點穩(wěn)定性大大提高。光學模塊包含壽命長的405 nm激光和**光斑形狀的光束整形光學元件。
特征：
-市場上*小的高品質激光束光斑。
-集成的650納米紅色激光控制自動對焦系統(tǒng)自動糾正高度變化。
-綜合劑量控制。
-選項：對于要求較低的任務，可以使用全自動NA開關選擇較大的光斑尺寸。此開關允許系統(tǒng)使用更大的點以提高速度。
光學特性
激光源405納米，GaN激光器
壽命>10000小時
寫入模式：0.6μm，可選1.2μm和2.0μm FWHM。
工作距離0.9毫米
**強度為3 mW，軟件可控。
灰度控制4095級
自動對焦800 Hz band寬，650nm 紅光激光控制
-0.3…x…+0.3 mm高度變化，帶自動高度跟蹤。
快速的音圈執(zhí)行器，精確的實時Z校正。
焦距可通過軟件控制進行調整。
正面對準
光學模塊配備高分辨率攝像機，用于需要多層的應用。相機圖像由高級成像軟件處理。自動標記識別使用戶很容易找到標記。用戶可以設定任何形狀作為標記。當在相機的視場中找不到標記時，軟件支持區(qū)域掃描，以便在更大的區(qū)域中自動搜索標記。對齊和圖像補償可以基于一個、兩個或三個標記。
正面對準指標：
校準照相機單色520萬像素。
像素分辨率1μm
*終對準精度 <0.5μm
修正算法通過掃描和步進軸之間的插值運動進行位置、比例（**5%）、傾斜、旋轉（**+/-5度）旋轉修正。
MLW-100配備了用于X和Y運動的高精度軸和一個用于Z運動的可選軸。掃描軸（Y）包含一個高精度燕尾形空氣軸承，該軸承由帶納米分辨率編碼器的直線電機驅動。步進軸（X）采用帶直線電機和高分辨率光學編碼器的精密滾子軸承。該系統(tǒng)允許極低的機械誤差和快速掃描運動?？蛇x的電動控制Z軸具有12 mm行程，以支持各種基板厚度。
用真空吸盤夾緊基板。真空吸盤易于更換，以支持不同的基板尺寸。
機械性能
行程和階梯**115 mm
重復性<50 nm RMS
分辨率10納米
掃描速度**200 mm/s
直線度軸 <1μm，在100 mm范圍
樣品厚度：0-10 mm手動調整；12 mm，安裝可選電動Z軸。
樣品襯底厚度變化**值+/-0.2mm
樣品襯底尺寸：5mm x 5mm到125mm x 125mm
曝光區(qū)域： 100mm x 100mm
暫無數(shù)據(jù)！
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