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美國光學(xué)膜厚儀，廣泛應(yīng)用于各種薄膜、涂層光學(xué)常數(shù)(n and k)和厚度的精確測量，設(shè)備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析，USB 連接計算機(jī)控制；
薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。
應(yīng)用：
半導(dǎo)體（光刻膠、氧化物和氮化物等），
液晶顯示器（ITO， Polyimide， Cell gap），
法醫(yī)鑒定、生物薄膜和材料；
墨水、礦物、染料、化妝品；
硬質(zhì)涂層、減反射涂層、濾波涂層；
醫(yī)藥、醫(yī)療器件；
光學(xué)薄膜、TiO2， SiO2， Ta2O5；
半導(dǎo)體化合物；
功能薄膜（MEMS/MOEMS）；
非晶硅、納米晶硅、晶體硅；
技術(shù)參數(shù)：
測量范圍：20 nm to 50 μm (Thickness only)，
100 nm to 10 μm (Thickness with n and k) ；
多層測量：Up to 4 layers；
光點大小調(diào)節(jié)范圍：0.8 mm to 1 cm ；
薄膜厚度測量精度：±0.5%；
厚度測重復(fù)性：0.1nm；
樣品臺尺寸：200 mm × 200 mm；
主要特點：
*基片折射率和消光系數(shù)測量；
*薄膜厚度測量，平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析；
*薄膜折射率和消光系數(shù)測量；
*適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片；
*測試數(shù)據(jù)輸出和加載；
*直接Patterned或特征機(jī)構(gòu)的試樣測試；
*可用于實時在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測；
*波長范圍可選；
*系統(tǒng)配備強(qiáng)大的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫，便于測試和數(shù)據(jù)分析；
暫無數(shù)據(jù)！
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