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        脈沖激光分子束外延設(shè)備/Laser MBE
        脈沖激光分子束外延設(shè)備/Laser MBE

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        美國SVT Laser MBE

        Laser MBE具備PLD和傳統(tǒng)MBE的特性,可對薄膜的生長速率進行精確(原子層級別)控制。通過在MBE系統(tǒng)上增加激光燒蝕工藝,系統(tǒng)可以生長包括高熔點陶瓷以及多元素固體材料等。SVT有18年的MBE設(shè)備制造經(jīng)驗,我們擅于通過原位的監(jiān)控測量儀器來提高薄膜生長的質(zhì)量。其中原位測量儀器包括:溫度測量、厚度測量、RHEED、束流監(jiān)控等。如果您想了解更多這方面的信息,

        應(yīng)用:

        可用于研究氧化物半導(dǎo)體, 高溫超導(dǎo)材料,光學晶體,電光學薄膜,鐵電以及鐵磁材料等。

        標準性能:

        • 超高真空(本底壓強<1E-10 Torr);

        • 多種生長模式的源集成,包括:

          • RF等離子體

          • 蒸發(fā)源

          • 電子束蒸發(fā)

          • 臭氧傳送系統(tǒng)

        • 先進的原位監(jiān)控儀(可選)

        • 原子吸收束流監(jiān)控儀

        • RHEED

        • 溫度以及厚度監(jiān)控儀

        • 6個可旋轉(zhuǎn)PLD靶

        • 高功率準分子激光器

        • 提供合適的泵抽組合

        • 多種腔室配置以滿足您的需求

        • 培訓(xùn)以及服務(wù)支持

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        脈沖激光分子束外延設(shè)備/Laser MBE信息由美國SVTA公司中國辦事處為您提供,如您想了解更多關(guān)于脈沖激光分子束外延設(shè)備/Laser MBE報價、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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